紋影系統紋影儀可用來觀察透明介質因各種因素引起的擾動的分布、傳播過程以及擾動強度等。如研究激光與物質作用、分層流、多項流、傳熱與傳質、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、高壓放電、等離子體、內彈道及某些化學反應等學科的流場密度變化科學研究。 獲取詳細資料 |
照明設備:普通激光光源、LED光源、鎢燈光源
狹縫類型:單狹縫、多狹縫、小孔、色散棱鏡或光柵、彩色圓孔或者方孔狹縫
刀口類型:單刀口、雙刀口、四刀口、柵格刀口、圓孔刀口等
結構類型:積木式、筒式、平板式或者相關結構類型
系統定制:根據不同的實驗和現場情況,可提供定制的紋影解決方案
主鏡參數
①材料為K9光學玻璃;
②應力≤1;
①鍍真空鋁反射膜,再鍍一層二氧化硅保護膜層;
③反射系數≥94%;
④表面精度:主反射鏡加工面型誤差≤λ/20;
⑤基座材料:鑄鐵、鑄鋁、45#鋼。
光源系統參數
①鹵素燈光源,亮度連續可調,并配套光源聚光鏡組;
②LED光源(含532紅光鏡頭,630綠光鏡頭),并配套相應光源聚光鏡組;
①光源系統支撐基座中心高度1200mm
狹縫系統參數
①雙向對開調節
②狹縫系統支撐基座中心高度1200mm
③基座材料:鑄鐵、鑄鋁、45#鋼。
刀口系統參數
①刀口系統包含黑白刀口和三色彩色刀口,并配套相應照相物鏡組;
②刀口系統支撐基座中心高度1200mm
③基座材料:鑄鐵、鑄鋁、45#鋼。
圖像采集接口參數
①可實現高速攝像與相機同步采集,互不干擾;
②高速攝像的接口為C口,配合Plantom V2012使用;相機應與本項目所采購相機的接口配合。
平面反射鏡
①材料:K9光學玻璃;
②應力≤1;
③鍍真空鋁反射膜,再鍍一層二氧化硅保護膜層;
④反射系數≥94%;
⑤表面精度:主反射鏡加工面型誤差≤λ/20;
⑥平面支撐基座系統中心高度1200mm;
⑦基座材料:45#鋼及鑄鋁材料、45#鋼。